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                                      气相沉积钕铁硼防护的技术是什么

                                      作者:admin 来源: 发布日期:2021.04.20 10:15
                                        据鑫磊磁电小编了解,日本某些钕铁硼磁铁生产商采用热蒸发和热喷涂相结合的方法,在钕铁硼表面沉积金属铝进行防护,目前国内尚未有单位掌握这项技术。
                                      气相沉积钕铁硼防护的技术是什么
                                       
                                      长期来看,物理气相沉积技术(PVD),如磁控溅射、离子镀等,是一种非常好的沉积方法。

                                      方法。用此工艺在钕铁硼表面沉积金属膜,其稳定性及镀层/基体结合力高,致密度大,在冷热交变环境中抗腐蚀能力强。研究表明,如果沉积过程中溅射粒子的能量足够大,可以提高磁性矫顽力。

                                      此外,钕铁硼磁体工件的边角对施镀厚度的影响程度远低于电镀和化学镀,而且施镀过程不会产生污染。最近几年,由于技术的发展,生产成本大大降低。

                                      采用物理气相法沉积可得到多种类型的镀层,而Al镀层是一种比较经济的镀层方法,是一种很有前途的先进防护技术,因此,该技术的产业化推广研究应引起产业界和政府部门的重视。

                                      金属镀层的物理气相沉积工艺要解决的问题有:

                                      (1)钕铁硼磁体保护要求在器件的每一面都采用相同的镀层,如何解决磁体在批量加工时的三维旋转问题,保证成膜质量的一致性,既是一个工程技术问题,又是一个溅射粒子在薄膜表面运动沉积的机理问题;

                                      烧结钕铁硼永磁体由于生产过程中表面和内部有大量气孔,需要研究磁体结构形态对溅射层的影响,提高其结合力;

                                      (3)高能量溅射原子在工件表面可达到一定深度,在磁体表面形成磁畴,提高了磁畴的矫顽力,可以通过钉扎机理及其对磁性的影响来控制和优化磁体性能;

                                      (4)金属膜的物理气相沉积腐蚀机理的研究;

                                      降低物理气相沉积规模工艺的成本,提高其市场竞争力,并替代或部分替代现有环境和资源负荷较大的电镀钕铁硼工艺,鑫磊磁电小编认为将是该领域的长期研究目标。

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